La Roche-Posay Effaclar Clay Mask 100ml

Ervaar een diepe, grondige reiniging met het La Roche-Posay Effaclar Clay Mask, een zuiverende formule die over het gezicht glijdt en zichtbaar poriën ontstopt binnen slechts vijf minuten. Het masker is geschikt voor alle huidtypes maar is ideaal voor de vettige huid die gevoelig is voor acne.

Het rijke masker is verrijkt met argilla en kaolien, die samenwerken om overtollig talg van de huid te absorberen, zonder de huid te ontdoen van essentieel vocht. De zuiverende formule richt zich op de talg diep in de huid, wat helpt om het gezicht te matteren en glansvrij te maken. Het gezichtsmasker helpt de huid te kalmeren als de talg is geëxtraheerd en maakt tevens gebruik van een ruime dosis 5% panthenol B5 voor een kalmerend gevoel.

Het masker verwijdert niet alleen overtollige olie maar wordt vervolledigd met een reeks Cellubeads™, die deskundig reinigen om onzuiverheden te elimineren en mee-eters te voorkomen. Als het Effaclar Clay Mask na vijf minuten wordt afgespoeld, onthult het een gereinigde teint die helder, schoon en comfortabel is.

• Gebruik 's avonds nadat u uw gezicht hebt gereinigd met Effaclar Gel Cleanser.
• Breng een dun laagje van het Effaclar Purifying Clay Mask aan op uw gezicht en laat 5 minuten drogen.
• Veeg vervolgens zachtjes af met La Roche-Posay Effaclar astringent lotion of met koud water en een handdoek.
• Als het masker is verwijderd, brengt u de hoeveelheid van een erwt van La Roche-Posay Effaclar DUO [+] in een cirkelvormige beweging aan op het gezicht.

Aqua / Water, Kaolin, Argilla / Magnesium Aluminum Silicate, Propanediol, Panthenol, Glycerin, Caprylic/Capric Triglyceride, CI 77891, Titanium Dioxide, Cetearyl Alcohol, Zea Mays Starch / Corn Starch, Cellulose, Ceteareth-20, Lecithin, Caprylyl Glycol, Citric Acid, Xanthan Gum, Tocopherol, Phenoxyethanol, Parfum / Fragrance, (Code F.I.L.: B188052/1).

For the latest information, it is recommended to review the ingredient list printed on the packaging of the product prior to usage or consumption.